遮光比是當使用納米激光粒度儀測試樣品時(shí)配置的樣品懸浮液的濃度。正確選擇陰影比率是粒度測量過(guò)程中的重要步驟。遮光率是否合適或樣品的濃度是否合適會(huì )嚴重影響粒度測量結果的性和代表性。
納米激光粒度儀的測量原理要求樣品的濃度應基于樣品中顆粒之間不發(fā)生二次散射的原理。從理論上講，懸浮液或空氣中顆粒之間的距離應為粒徑的3倍，但是，這一要求很難掌握，因此在實(shí)際粒度測試中，調整陰影比值以確保存在粒子之間沒(méi)有二次散射。陰影比例不應太大（大于50％）或太?。ㄐ∮?％）。遮光率過(guò)大時(shí)，粒子濃度過(guò)高，容易引起二次散射，測定誤差變大。如果遮蔽率太低，則樣品中的顆粒濃度太低，顆粒數太少，測試結果的代表性非常差，甚至可能導致測試結果無(wú)效。因此，在測試過(guò)程中，應重復選擇遮光比率以獲得正確的測量結果。
一般而言，對于較粗糙的樣品，遮光率可以更高，例如20?30％，正常情況下可以達到10?25％。對于超細樣品，可以適當降低樣品的遮光率，但通常不超過(guò)40％。使用納米激光粒度儀進(jìn)行粒度測試時(shí)，由不同人員操作有時(shí)會(huì )導致測試結果不同。如何確保粒度測試在可重復性方面，應注意以下要求：
1.儀器系統必須穩定可靠，包括信號傳輸系統，數據處理，抗干擾等；
2.系統配備循環(huán)分散混合裝置；
3.儀器供應商應具備提供技術(shù)指導的能力；
4.儀器具有規范的操作程序功能；
5.注意儀器和操作以外的因素，包括采樣因素和環(huán)境因素。
